تولید انبوه تراشههای 7+ نانومتری توسط TSMC آغاز شد
شرکت تولیدکننده تراشههای TSMC اعلام کرد که مدتی است تولید انبوه تراشههای ۷+ نانومتری مبتنی بر فرآیند EUV را آغاز کرده است. این شرکت در بیانیهای اظهار داشت که این روش شبیه روش تولید ۷ نانومتری است که از بیش از یک سال پیش به فناوری تولید آن دست یافته بودند.
TSMC میگوید این روش تولید مسیر حرکت به سوی فرآیند تولید ۶ نانومتری را که تولید آزمایشی آن از سهماهه نخست ۲۰۲۰ آغاز خواهد شد باز میکند. عرضه تراشههای ۶ نانومتری از انتهای سال آینده میلادی صورت خواهد پذیرفت.
تحلیلگران میگویند سرمایهگذاران خارجی به پروسه تولید تراشههای ۷+ نانومتری TSMC چشم میدوزند، چرا که این تولید انبوه یکی از سریعترین نمونههای موجود در تاریخ تولید تراشههاست. این روش به TSMC کمک میکند تا به واسطه دستیابی به اولین فناوری تجاری لیتوگرافی EUV بتواند نسبت به رقبا برتری داشته باشد.
فرآیند تولید فرابنفش شدید (EUV) به این شرکت اجازه میدهد مقیاس تراشهها را در طول موجهای کوتاهتر نگه دارد و قابلیتهای آنها را در اندازههای نانومتری بهتر کند. این شیوه موجب افزایش ۱۵ تا ۲۰ درصدی چگالی و مصرف بهینه انرژی در تراشهها میشود، در نتیجه سازندگان تلفنهای هوشمند استقبال بسیار خوبی از آنها نشان میدهند.
بر اساس برنامهریزی TSMC تولید آزمایشی تراشههای نسل بعدی با فرآیند تولید ۶ نانومتری در سهماهه نخست سال آینده میلادی انجام خواهد شد. این شرکت انتظار دارد روش ۶ نانومتری ضمن حفظ طراحی نسل قبلی بتواند ۱۸ درصد چگالی منطقی بیشتری نسبت به روش ۷ نانومتری داشته باشد. TSMC همچنین در حال کار روی فناوریهای ۵ و ۳ نانومتری است، اما این فناوریها هنوز در مرحله تحقیق و توسعه قرار دارند.